烯丙基磺酸鈉

ALS是鍍鎳走位劑，鎳槽中加入ALS能有效的防止針孔減少主光劑用量；使鎳層(céng)具有一定的白亮效果，通常與BSI、炔醇類等次級光亮劑配合使用，可獲得柔軟性極佳的鍍層(céng)。可适用於(yú)光亮酸性鍍鎳、啞光鎳、鎳鐵合金等工藝。

 

ALS與BSI、DOSS、BKSS、SAS、TPP、ATPN、VS、PS等鍍鎳中間體可組成性能優良的光亮鍍鎳柔軟劑。建議鍍液中用量爲0.5-2g/L。鍍液中含量過低，鍍層(céng)整平光亮度下降，鍍液中含量過高，鍍層(céng)容易發花發黃，可活性炭吸附或電解處(chù)理。鍍液中消耗量爲100-200g/KAH。

 

ALS與BSI、DOSS、BKSS、PESS、MOSS、TPP、ATPN等中間體可組成性能優良的亞光鎳添加劑，建議鍍液中用量爲0.1-0.2g/L。鍍液中含量過低
，鍍層(céng)走位性能變(biàn)差，鍍液中含量過高
，鍍層(céng)容易發花發黃，可用活性炭吸附或小電流電解處理。鍍液中消耗量爲50-100g/KAH。